5招教你改善单晶硅太阳电池PECVD设备镀膜均匀性

单晶硅太阳电池PECVD设备镀膜均匀性的细节因素可从以下5个方面改善

1.适当的降低镀膜过程中反应压力有助于改善镀膜均匀性，

2.适当增加工艺沉积前的恒温时间、控制绒面的均匀性同样有助于改善镀膜均匀性，

3.腔体内部及特气进气孔的清洁保养及时性同样可提升单晶硅太阳电池PECVD镀膜均匀性，

4.降低石墨舟表面粗糙度同样可改善镀膜均匀性。

5.选择在炉腔压力1200mtorr、恒温时间5min、降低石墨舟表面粗糙度，搭配绒面差异小的硅片，

做好这些对镀膜均匀性改善可以有非常好的效果

PECVD镀膜技术原理：是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应在样品表面形成固态薄膜

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