石金科技告诉你哪些因素影响管式PECVD 镀膜的均匀性

经过专业人员从镀膜工艺参数设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态3 个方面对管式PECVD 镀膜均匀性进行了研究，结果表明：

      1) 镀膜过程中适当降低腔体外层压力，增加内层氮硅比，降低射频功率对片内或片间均匀性有所改善。实验过程中，在保证良率的情况下，选择外层压力为1700 mTorr、内层氮硅比为4.487、射频功率为7600 W 时，调节DLV 优化石墨舟各区温度且定期清理腔体内部碎片可改善镀膜均匀性。

      2) 在一定范围内，制绒面反射率增加，膜厚增大，片内均匀性更优。

      3) 新石墨舟镀膜均匀性明显优于旧石墨舟；在新石墨舟使用周期内，运行30 次时片间均匀性达到最优。

本文出自深圳市石金科技股份有限公司，公司是集销售、应用开发，产品加工的石墨专业厂家，专门为模具行业、机械行业、真空热处理炉、电子半导体及太阳能光伏（石墨舟）产业等提供石墨材料、石墨电极和相关的石墨制品，欢迎致电13662687390